EUV激光出光

郭良125

EUV光刻机用的光，是13.5nm波长。这个光的材料吸收性极强，包括空气、普通光学玻璃等几乎所有物质都会强烈吸收EUV光。所以，这个波长压根在地球上是不存在的。它只存在于外太空当中。既然不存在，那就把它造出来。到底是如何制造13.5nm波长的光呢？先来看一下光刻机顶级品牌ASML的做法：使用高能激光轰击金属锡激发等离子体产生13.5nm光。但是轰击只是一瞬间的事情，极其短暂。那么该如何得到持续稳定高强度的EUV呢？经过多年反复验证尝试，最终得到一套行之有效的方法。那就是把金属锡融化，从高处以每秒5万次的频率滴下，每一滴锡只有20微米的大小。
然后用CO2激光器产生的高能激光瞄准每一滴锡滴并击中它，产生电浆，并发出13.5nm波长的EUV光。
但是这种方式下能量不够，再加上EUV光极容易被材料所吸收，使得最后到达晶圆的光强度不足，曝光时间过长，产能极低，虽然可以产生EUV光，但无法量产。
只好再发展下一个黑科技：重复击打两次。
先发射第一束激光击中圆形锡液滴，将其变成一个面积相对较大的薄饼形状，然后紧接着再发射第二束高强激光击中整个薄饼。
薄饼锡受光面积大且面向激光，产生的光强远大于一次射击时产生的光强，此时，耀眼夺目的光强终于蓬勃而出。