TA的每日心情 | 郁闷 2025-6-16 08:20 |
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签到天数: 80 天 [LV.6]常住居民II
小白
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1、初始架构采用了《近代光学系统设计概论》的WS171和WS179,WS171四片镜片,F=5.6,W=2.8,WS179七片镜片,F=5.6,W=3;F数比指标大,需一点点减少,因为F数变大口径也会增大,视场角比指标大,可以直接调整为指标要求,边缘不良像质减少(不知道这样对不对,请大佬指点);
2、调整WS171四片物镜F数、视场角以及焦距达到指标要求;前组后组大空气间隔中间直接添加两块平板,设置所有变量,添加默认评价函数以及控制焦距,直接开锤,这里忘了控制总长了,导致总长远远大于焦距,后面在一点点缩小,自我感觉正因为总长没有太大限制,得以让zemax更好的跑出初始架构,有点运气成分;
3、优化期间两块透镜有胶合趋势,两块曲率半径大致相同,然后就把他们胶合了,为了像质得到满足,在优化期间,一直在空气间隔大的地方添加透镜;(不知道这样加透镜对不对?看社区有的大佬说在赛德尔图处初级像差最敏感的地方加透镜,也就是高度最高的一面?),若优化后,变成弯月透镜,厚度、光焦度变小,这时候就把他们删了,考虑到摄远物镜前组后组之分(前后组空气间隔非常大),期间也一直在调整光阑的位置,就这样一直锤、试,但是我觉得我思考的根本不够多,都是电脑再跑,我不懂怎么控制他往哪个方向跑;
4、在优化初期时,我是用点列图评价函数锤的,发现边缘MTF像质MTF一直上不去,这时候RMS半径基本达到弥散斑大小,一直锤不动,这时候我就切换到波前优化,像质突然就好起来了,突然想到之前有看到说切换评价函数来跳出软件极小值,还是说波前小于2个波长了,可以切换到波前来更好的优化MTF?再锤不动的时候,我增加了臂数环数,像质好像也有一定提升,这里我的理解是光线数变多了,默认评价函数权重贡献总体也会增加,软件对通过透镜成像光线控制的更合理了;
5、优化的时候,一直是电脑在锤,一直盯着MTF,没细看点列图,光线图以及玻璃的替换,像差理论感觉还是很薄弱,请教一下各位大佬都是怎么优化的?
6、WS179是7片透镜,这个我是先调整视场、焦距达到指标,先保持F数不变,然后一点点控制总长达标,等像质好了之后在一点点减少F数,期间加透镜减透镜,调整光阑位置,感觉有点乱来,像质总体差了一点;
7、总的来说,两个架构基本达到衍射极限了,简单跑了下公差,发下第一块透镜和胶合透镜的折射率和阿贝数都十分敏感,请教一下这是什么原因呢?有什么方法可以解决嘛?锤感觉作用不大,请各位大佬指点?
8、两个架构最终结构有很大区别,与初始架构也大不相同,请问一下大家都是怎么优化的?各个透镜主要在透镜组中大概承担什么作用,有没有大佬会分析一下?
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