超构透镜加工

苏化

最近设计了一个超构透镜，在联系微纳加工平台加工，有一些体会：

1. 基于传输相位，比如圆柱，本来半径变化范围就小，由于加工误差的限制，采样步长又得很大，而且还有深宽比限制；
2. 使用EBL来加工，深宽比可以稍微大一些，但是很贵，加工一个样片要好几万。
3.使用纳米压印的话，深宽比就很小了。
所以超构透镜真的能落地吗？
(好像基于几何相位深宽比可以小一些。）

Lambda

之前咨询过专门做nanoimprint的，据他们所说深宽比最大能到10:1的高保真度，不过我估计这也只是针对于光栅结构，比较容易剥离

苏化

Lambda 发表于 2024-4-25 09:57
之前咨询过专门做nanoimprint的，据他们所说深宽比最大能到10:1的高保真度，不过我估计这也只是针对于光栅 ...

10:1应该是EBL，纳米压印只能5:1，我这边咨询的情况是。