极紫外光刻投影物镜中的畸变

蓝白鸽

最近在研究极紫外光刻的投影物镜，发现它对像差和畸变的要求特别高，一般的波像差都在0.03波长左右，而且畸变要求也在1nm左右，但我自己尝试做个小NA的系统时，发现波像差满足要求时，畸变远远达不到1nm，而且畸变也一般是用百分比表示的，我在查找文献时也发现没有额外的解释，就是直接说畸变达到这个要求，所以在想这个畸变是不是和成像系统中的不太一样，有着其他的解释，有没有大神能解答一下我的疑问。

kangsirui

抱歉，给你说错了

蓝白鸽

kangsirui 发表于 2021-9-24 15:32
定义稍有不同，因为光刻投影镜头对像差要求非常高，所以看的是波像差，为了更好的评估，采用泽妮可系数进行 ...

畸变该如何计算，我是采用光线追迹各个视场的主光线在像面的高度，减去理想需要的像高就是畸变，但这样求出来的畸变还是很大，远大于1nm。

kangsirui

蓝白鸽 发表于 2021-9-24 16:35
畸变该如何计算，我是采用光线追迹各个视场的主光线在像面的高度，减去理想需要的像高就是畸变，但这样求 ...

抱歉说错了，按照这个方式还需要除以平移旋转倍率。

蓝白鸽

kangsirui 发表于 2021-9-24 16:49
抱歉说错了，按照这个方式还需要除以平移旋转倍率。

为什么需要除以这个倍率呢？这个倍率具体是啥？畸变不是实际像高减理想像高嘛。主要是这个nm级别的畸变一直没弄明白，畸变不一般是用百分比表示嘛，这个光刻机中的畸变是不是一个另外表示的方式?

night4150

光刻物镜畸变要求就是这么严格，可以用主光线的畸变评价，也可用重心点的畸变评价，优化过程约束像面主光线高度，或者约束相对畸变值