Applied Optics-第59卷，第十三期-衍射和光栅-采用光刻胶热熔和氧离子灰化相结合的...

前途无量

Applied Optics，Vol.59,Issue13,pp.3942-3950(2020•https://doi.org/10.1364/AO.386465

采用光刻胶热熔和氧离子灰化相结合的方法加工低杂散光凹面全息光栅

本文的主要目的是减少凹型全息光栅的杂散光和线粗糙度。与之前报道的其他线平滑光栅技术(如动态曝光近场全息术)相比，我们成功地将CHG的线平滑从2 nm提高到大约10 nm。我们的方法采用优化技术，结合光刻胶热熔(PHM)和氧离子灰化(OIA)，从而将优化前后的杂散光度提高一个数量级;OIA、PHM、OIA依次处理水平为7.85×10−5。结合这两种技术，使凹面光栅的杂散光更低，槽线更直，效率更高，易于实现，成本更低。